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ITO薄膜的制备、光刻及性能测试实验设计

张磊 刘文龙 段宇星

实验科学与技术2013,Vol.11Issue(6):237-239,3.
实验科学与技术2013,Vol.11Issue(6):237-239,3.DOI:10.3969/j.issn.1672-4550.2013.06.074

ITO薄膜的制备、光刻及性能测试实验设计

Experimental Design of Preparation, Lithography and Measurement for ITO Thin-film

张磊 1刘文龙 1段宇星1

作者信息

  • 1. 电子科技大学光电信息学院,成都610054
  • 折叠

摘要

关键词

ITO薄膜/刻蚀/方阻/透过率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张磊,刘文龙,段宇星..ITO薄膜的制备、光刻及性能测试实验设计[J].实验科学与技术,2013,11(6):237-239,3.

实验科学与技术

1672-4550

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