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P型非晶硅薄膜制备及其在HIT太阳电池中应用

齐晓光 杨瑞霞 雷青松 薛俊明

人工晶体学报2014,Vol.43Issue(2):280-284,5.
人工晶体学报2014,Vol.43Issue(2):280-284,5.

P型非晶硅薄膜制备及其在HIT太阳电池中应用

Fabrication of P-type a-Si∶H Thin Films and Its Application in HIT Solar Cells

齐晓光 1杨瑞霞 1雷青松 2薛俊明2

作者信息

  • 1. 河北工业大学信息工程学院,天津300401
  • 2. 河北汉盛光电科技有限公司,衡水053000
  • 折叠

摘要

关键词

RF-PECVD/非晶硅薄膜/硼烷浓度/加热温度/HIT太阳电池

Key words

RF-PECVD/amorphous silicon thin film/borane concentration/heating temperature/HIT solar cell

分类

数理科学

引用本文复制引用

齐晓光,杨瑞霞,雷青松,薛俊明..P型非晶硅薄膜制备及其在HIT太阳电池中应用[J].人工晶体学报,2014,43(2):280-284,5.

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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