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有限元分析薄膜/基底在纳米压痕过程中的力学性能

王晓宇 王金良 彭洪勇

人工晶体学报2014,Vol.43Issue(2):327-332,6.
人工晶体学报2014,Vol.43Issue(2):327-332,6.

有限元分析薄膜/基底在纳米压痕过程中的力学性能

Finite Element Analysis on the Mechanical Properties of the Film/Substrate System in the Process of Nanoindentation

王晓宇 1王金良 1彭洪勇1

作者信息

  • 1. 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,北京100191
  • 折叠

摘要

关键词

有限元/薄膜/基底体系/残余深度/应力

Key words

finite element/film/substrate system/residual depth/stress

分类

数理科学

引用本文复制引用

王晓宇,王金良,彭洪勇..有限元分析薄膜/基底在纳米压痕过程中的力学性能[J].人工晶体学报,2014,43(2):327-332,6.

基金项目

国家自然科学基金(50772006) (50772006)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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