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基于第一性原理方法研究基团在CVD金刚石薄膜(001)表面上的生长

刘学杰 魏怀 任元 陆峰 张素慧 银永杰

材料工程Issue(4):46-52,7.
材料工程Issue(4):46-52,7.DOI:10.3969/j.issn.1001-4381.2014.04.008

基于第一性原理方法研究基团在CVD金刚石薄膜(001)表面上的生长

Growth of Radicals on CVD Diamond (001) Surface: First Principle Studies

刘学杰 1魏怀 2任元 1陆峰 1张素慧 1银永杰1

作者信息

  • 1. 内蒙古科技大学机械工程学院,内蒙古包头014010
  • 2. 北京工业大学耿丹学院,北京101301
  • 折叠

摘要

关键词

第一性原理/CVD金刚石薄膜/基团/生长机理/吸附演变

Key words

first-principle/CVD diamond film/radical/growth mechanism/adsorption evolution

分类

化学化工

引用本文复制引用

刘学杰,魏怀,任元,陆峰,张素慧,银永杰..基于第一性原理方法研究基团在CVD金刚石薄膜(001)表面上的生长[J].材料工程,2014,(4):46-52,7.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(50845065) (50845065)

内蒙古自然科学基金资助项目(2010Zd21) (2010Zd21)

内蒙古科技大学创新基金资助项目(2012NCL050) (2012NCL050)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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