人工晶体学报2014，Vol.43Issue(3)：569-575,7.
多晶硅化学气相沉积反应的三维数值模拟
Three-dimensional Numerical Simulation of Chemical Vapor Deposition of Polysilicon
摘要
关键词
多晶硅/化学气相沉积/数值模拟/沉积速率Key words
polysilicon/ chemical vapor deposition / numerical simulation/ deposition rate分类
能源科技引用本文复制引用
夏小霞,周乃君,王志奇..多晶硅化学气相沉积反应的三维数值模拟[J].人工晶体学报,2014,43(3):569-575,7.基金项目
湖南省科技计划重点项目(2009GK2009) （2009GK2009）
湖南省教育厅一般项目(12C0379) （12C0379）
