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原子层沉积生长速率的控制研究进展

卢维尔 董亚斌 李超波 夏洋 李楠

无机材料学报2014,Vol.29Issue(4):345-351,7.
无机材料学报2014,Vol.29Issue(4):345-351,7.DOI:10.3724/SP.J.1077.2014.13449

原子层沉积生长速率的控制研究进展

Research Progress on Growth Rate Controlling of Atomic Layer Deposition

卢维尔 1董亚斌 1李超波 2夏洋 1李楠1

作者信息

  • 1. 中国科学院微电子研究所,微电子器件与集成技术重点实验室,北京100029
  • 2. 中国科学院大学,北京100190
  • 折叠

摘要

关键词

原子层沉积/生长速率/生长机制/位阻效应

Key words

atomic layer deposition/ growth rate/ growth mechanism/ steric hindrance

分类

化学化工

引用本文复制引用

卢维尔,董亚斌,李超波,夏洋,李楠..原子层沉积生长速率的控制研究进展[J].无机材料学报,2014,29(4):345-351,7.

基金项目

中国科学院科研装备研制项目(Y3YZ028001) (Y3YZ028001)

Scientific Research and Equipment Development Project,Chinese Academy of Sciences (Y3YZ028001) (Y3YZ028001)

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-324X

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