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铬掺杂对氧化铝陶瓷真空电绝缘性能的影响

刘湘龙 李晓云 杨建 丘泰

人工晶体学报2014,Vol.43Issue(4):857-861,5.
人工晶体学报2014,Vol.43Issue(4):857-861,5.

铬掺杂对氧化铝陶瓷真空电绝缘性能的影响

Effects of Chromium Doping on the Insulator Properties in Vacuum of Alumina

刘湘龙 1李晓云 1杨建 1丘泰1

作者信息

  • 1. 南京工业大学材料科学与工程学院,南京210009
  • 折叠

摘要

关键词

氧化铝陶瓷/表面闪络/掺杂/氧化铬

Key words

alumina ceramic/ surface flashover/ chromium oxide

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘湘龙,李晓云,杨建,丘泰..铬掺杂对氧化铝陶瓷真空电绝缘性能的影响[J].人工晶体学报,2014,43(4):857-861,5.

基金项目

江苏高校优势学科建设工程 ()

长江学者和创新团队发展计划(PCSIRT) (PCSIRT)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

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