光学精密工程2014，Vol.22Issue(5)：1289-1295,7.DOI:10.3788/OPE.20142205.1289
SiO2/CeO2复合磨粒的制备及在蓝宝石晶片抛光中的应用
Preparation of nano SiO2/CeO2 composite particles and their applications to CMP on sapphire substrates
摘要
关键词
蓝宝石晶片/化学机械抛光/表面粗糙度/SiO2/GeO2/复合磨料Key words
sapphire substrate/chemical mechanical polish/surface roughness/SiO2/GeO2/composite abrasive分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
白林山,熊伟,储向峰,董永平,张王兵..SiO2/CeO2复合磨粒的制备及在蓝宝石晶片抛光中的应用[J].光学精密工程,2014,22(5):1289-1295,7.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.50975002) （No.50975002）
安徽工业大学创新团队项目(No.TD201204) （No.TD201204）
教育部高校留学回国人员科研项目 （）
安徽工业大学研究生创新基金资助项目(No.2012029) （No.2012029）
