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铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究

杨帆 韦敏 邓宏 杨胜辉 刘冲

发光学报2014,Vol.35Issue(5):604-607,4.
发光学报2014,Vol.35Issue(5):604-607,4.DOI:10.3788/fgxb20143505.0604

铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究

Characteristics of Copper Doped Zinc Oxide Thin Film Resistive Switching

杨帆 1韦敏 1邓宏 1杨胜辉 1刘冲1

作者信息

  • 1. 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054
  • 折叠

摘要

关键词

铜掺杂氧化锌/阻变开关/空间电荷限制电流效应

Key words

ZnO∶ Cu/resistive switching/SCLC

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨帆,韦敏,邓宏,杨胜辉,刘冲..铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究[J].发光学报,2014,35(5):604-607,4.

基金项目

中央高校基本科研业务费 ()

中国高等学校博士学科点科研基金(20110185110014)资助项目 (20110185110014)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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