南京工业大学学报（自然科学版）2014，Vol.36Issue(3)：1-6,6.DOI:10.3969/j.issn.1671-7627.2014.03.001
Ar/O2对磁控溅射法制备Bi1.5MgNb1.5O7薄膜结构与性能的影响
Effects of Ar/O2 on structure and properties of Bi1.5MgNb1.5O7 films prepared by magnetron sputtering
摘要
关键词
Bi1.5MgNb1.5O7薄膜/磁控溅射/介电性能/Ar/O2流速比/调谐率Key words
Bi1.5MgNb1.5O7 film/magnetron sputtering/dielectric properties/Ar/O2 flow rate ratio/tunability分类
数理科学引用本文复制引用
高虹,朱明康,吕忆农,刘云飞..Ar/O2对磁控溅射法制备Bi1.5MgNb1.5O7薄膜结构与性能的影响[J].南京工业大学学报（自然科学版）,2014,36(3):1-6,6.基金项目
江苏高校优势学科建设工程 （）
长江学者和创新团队发展计划(IRT1146) （IRT1146）
