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新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究

靳福江 卢兵 朱凤稚 罗峰 柳星 代伟男 刘华 范峻

液晶与显示2014,Vol.29Issue(4):521-526,6.
液晶与显示2014,Vol.29Issue(4):521-526,6.DOI:10.3788/YJYXS20142904.0521

新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究

Narrow black matrix for TFT-LCD

靳福江 1卢兵 1朱凤稚 1罗峰 1柳星 1代伟男 1刘华 1范峻1

作者信息

  • 1. 成都京东方光电科技有限公司,四川成都611731
  • 折叠

摘要

关键词

黑矩阵/线宽/相位移掩膜板/背面曝光

Key words

black matrix/critical dimension/phase shift mask/back exposure

分类

能源科技

引用本文复制引用

靳福江,卢兵,朱凤稚,罗峰,柳星,代伟男,刘华,范峻..新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究[J].液晶与显示,2014,29(4):521-526,6.

液晶与显示

OA北大核心CSCD

1007-2780

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