液晶与显示2014，Vol.29Issue(4)：544-547,4.DOI:10.3788/YJYXS20142904.0544
在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究
Preliminary study on improving resolution on mirror projection mask aligner with phase shift mask
摘要
关键词
相移掩膜/等间隔线/模拟/曝光容限/解像力Key words
phase shift mask/equidistant lines/simulation/exposure margin/resolution分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
黎午升,惠官宝,崔承镇,史大为,郭建,孙双,薛建设..在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究[J].液晶与显示,2014,29(4):544-547,4.基金项目
国家高技术研究发展计划(863计划)项目(No.2014AA032701) （863计划）
