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提拉法SiO2化学膜厚度与折射率的变化规律研究

张日东 严鸿维 吕海兵 张尽力 晏良宏 赵松楠 王韬 雷洁红

强激光与粒子束2014,Vol.26Issue(7):70-74,5.
强激光与粒子束2014,Vol.26Issue(7):70-74,5.DOI:10.11884/HPLPB201426.072005

提拉法SiO2化学膜厚度与折射率的变化规律研究

Changes of thickness and refractive index of silica sol-gel film by dip coating process

张日东 1严鸿维 2吕海兵 2张尽力 2晏良宏 2赵松楠 2王韬 2雷洁红2

作者信息

  • 1. 西华师范大学物理与电子信息学院,四川南充637009
  • 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900
  • 折叠

摘要

关键词

提拉法/SiO2膜/薄膜厚度/折射率

Key words

dip coating process/silica film/thickness/refractive index

分类

数理科学

引用本文复制引用

张日东,严鸿维,吕海兵,张尽力,晏良宏,赵松楠,王韬,雷洁红..提拉法SiO2化学膜厚度与折射率的变化规律研究[J].强激光与粒子束,2014,26(7):70-74,5.

基金项目

核废物与环境安全国防重点实验室开放基金项目(10zxnk07) (10zxnk07)

四川省教育厅自然科学青年项目(11ZB033) (11ZB033)

强激光与粒子束

OA北大核心CSCD

1001-4322

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