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氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理

潘鑫马志斌李国伟曹为王传新付秋明

强激光与粒子束2014，Vol.26Issue(7)：243-247,5.

强激光与粒子束2014，Vol.26Issue(7)：243-247,5.DOI:10.11884/HPLPB201426.074001

Mechanism of etching CVD diamond film by oxygen plasma

潘鑫 ¹马志斌 ¹李国伟 ¹曹为 ¹王传新 ¹付秋明¹

作者信息

刻蚀/CVD金刚石/等离子体参数/ECR等离子体

etching/CVD diamond/plasma parameters/ECR plasma

化学化工

潘鑫,马志斌,李国伟,曹为,王传新,付秋明..氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理[J].强激光与粒子束,2014,26(7):243-247,5.

国家自然科学基金项目(10875093) （10875093）

OA北大核心CSCD

ISSN：1001-4322

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