人工晶体学报2014，Vol.43Issue(7)：1718-1722,5.
磁控溅射制备非晶硅薄膜的均匀性及光学吸收特性研究
Investigation on the Uniformity and Optical Absorption Properties of Amorphous Si Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
射频磁控溅射/非晶硅薄膜/均匀性/光学吸收Key words
RF magnetron sputtering/a-Si thin film/uniformity/optical absorption分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
段良飞,杨雯,杨培志,张力元,涂晔,李学铭..磁控溅射制备非晶硅薄膜的均匀性及光学吸收特性研究[J].人工晶体学报,2014,43(7):1718-1722,5.基金项目
国家自然科学基金联合基金(U1037604) （U1037604）
