武汉工程大学学报2014，Vol.36Issue(3)：33-37,5.DOI:10.3969/j.issn.1674-2869.2014.03.007
基片温度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响
Influence of substrate temperature on boron-doping of nano-crystalline diamond films
摘要
关键词
纳米金刚石薄膜/掺硼/化学气相沉积Key words
nano-crystalline diamond films/boron doping/microwave plasma enhanced chemical vapor deposition分类
数理科学引用本文复制引用
熊礼威,崔晓慧,汪建华,龚国华,邹伟..基片温度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响[J].武汉工程大学学报,2014,36(3):33-37,5.基金项目
国家自然科学基金项目(11175137) （11175137）
湖北省教育厅科学技术研究项目(Q20121501) （Q20121501）
武汉工程大学科学研究基金(11111051) （11111051）
