沈阳大学学报（自然科学版）2014，Vol.26Issue(4)：272-276,5.
磁控溅射沉积TiN薄膜工艺优化
Process Optimization of TiN Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
正交设计/TiN薄膜/磁控溅射/纳米硬度/结合力/工艺优化分类
通用工业技术引用本文复制引用
贺春林,朱跃长,张金林,马国峰,王建明..磁控溅射沉积TiN薄膜工艺优化[J].沈阳大学学报（自然科学版）,2014,26(4):272-276,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51171118) （51171118）
教育部留学回国人员启动基金资助项目 （）
辽宁省高等学校优秀科技人才支持计划资助项目(LR2013054). （LR2013054）
