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氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性能的影响

曹国华 蔡红新 张宝庆 李明 康朝阳

河南理工大学学报(自然科学版)2014,Vol.33Issue(5):671-674,4.
河南理工大学学报(自然科学版)2014,Vol.33Issue(5):671-674,4.

氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性能的影响

Influence of annealing treatment in O2 atmosphere on properties of ITO thin film

曹国华 1蔡红新 1张宝庆 2李明 1康朝阳1

作者信息

  • 1. 河南理工大学物理化学学院,河南焦作454000
  • 2. 河南理工大学材料科学与工程学院,河南焦作454000
  • 折叠

摘要

关键词

ITO/表面化学组分/退火处理

Key words

ITO/chemical composition of surface/annealing treatment

分类

数理科学

引用本文复制引用

曹国华,蔡红新,张宝庆,李明,康朝阳..氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性能的影响[J].河南理工大学学报(自然科学版),2014,33(5):671-674,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51301062) (51301062)

亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室开放课题(201207) (201207)

河南省教育厅科学技术研究重点项目(13B430019) (13B430019)

河南理工大学博士基金资助项目(B2012-007). (B2012-007)

河南理工大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSTPCD

1673-9787

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