中国钼业2014，Vol.38Issue(2)：43-46,4.DOI:10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2014.02.009
等离子喷涂技术在溅射靶材制备中的应用
APPLICATION OF PLASMA SPRAYING TECHNOLOGY IN PREPARATION OF SPUTTERING TARGETS
梁静 1林小辉1
作者信息
- 1. 西北有色金属研究院,陕西西安710016
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摘要
关键词
等离子喷涂/溅射靶材/制备Key words
plasma spraying/sputtering targets/preparation分类
矿业与冶金引用本文复制引用
梁静,林小辉..等离子喷涂技术在溅射靶材制备中的应用[J].中国钼业,2014,38(2):43-46,4.
