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射频磁控溅射法制备的CaWO4∶yb3+薄膜及其发光性能研究

廖金生 刘宝 柳少华 钟来富 傅俊祥

发光学报2014,Vol.35Issue(10):1234-1239,6.
发光学报2014,Vol.35Issue(10):1234-1239,6.DOI:10.3788/fgxb20143510.1234

射频磁控溅射法制备的CaWO4∶yb3+薄膜及其发光性能研究

Photoluminescence Properties of Yb3+-doped CaWO4 Thin Films Grown by Radio Frequency Magnetron Sputtering

廖金生 1刘宝 1柳少华 1钟来富 1傅俊祥1

作者信息

  • 1. 江西理工大学冶金与化学工程学院,江西赣州341000
  • 折叠

摘要

关键词

CaWO4/薄膜/磁控溅射/下转换

Key words

CaWO4/thin film/magnetron sputtering/downconversion

分类

数理科学

引用本文复制引用

廖金生,刘宝,柳少华,钟来富,傅俊祥..射频磁控溅射法制备的CaWO4∶yb3+薄膜及其发光性能研究[J].发光学报,2014,35(10):1234-1239,6.

基金项目

国家自然科学基金(51162012) (51162012)

江西省级大学生创新创业训练计划项目(201310407028) (201310407028)

江西省自然科学基金(20142BAB203004) (20142BAB203004)

江西省教育厅基金(GJJ14410)资助项目 (GJJ14410)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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