材料科学与工程学报2014，Vol.32Issue(6)：845-847,907,4.
功率和退火对磁控溅射生长ZnO∶Ga薄膜的影响
Influence of Sputtering Power and Annealing on the Ga-doped ZnO Films by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ZnO∶Ga/磁控溅射/电学性能/功率/退火Key words
Ga-doped ZnO (GZO)/magnetron sputtering/electrical properties/sputtering power/annealing分类
通用工业技术引用本文复制引用
李霞,陈凌翔,吕建国,叶志镇..功率和退火对磁控溅射生长ZnO∶Ga薄膜的影响[J].材料科学与工程学报,2014,32(6):845-847,907,4.基金项目
国家自然科学基金重大研究计划资助项目(91333203)、国家自然科学基金资助项目(51172204)、浙江省科技厅资助项目(2010R50020) （91333203）
