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n型补偿直拉单晶硅的电子迁移率

易俊 陈鹏 马向阳 杨德仁

材料科学与工程学报2015,Vol.33Issue(1):5-8,4,5.
材料科学与工程学报2015,Vol.33Issue(1):5-8,4,5.

n型补偿直拉单晶硅的电子迁移率

Electron Mobility in n-type Compensated Czochralski Silicon Crystal

易俊 1陈鹏 1马向阳 1杨德仁1

作者信息

  • 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027
  • 折叠

摘要

关键词

电子迁移率/补偿/

Key words

electron mobility/ compensation/ silicon

分类

数理科学

引用本文复制引用

易俊,陈鹏,马向阳,杨德仁..n型补偿直拉单晶硅的电子迁移率[J].材料科学与工程学报,2015,33(1):5-8,4,5.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(60906001) (60906001)

国家科技重大专项资助项目(2010ZX02301-003) (2010ZX02301-003)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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