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衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响

彭柳军 杨雯 陈小波 自兴发 杨培志 宋肇宁

人工晶体学报2015,Vol.44Issue(1):38-42,54,6.
人工晶体学报2015,Vol.44Issue(1):38-42,54,6.

衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响

Effect of Substrate Temperature on Structure and Photoelectric Properties of Zn(O, S) Thin Films Deposited by Magnetron Co-sputtering

彭柳军 1杨雯 2陈小波 1自兴发 2杨培志 1宋肇宁2

作者信息

  • 1. 云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,昆明650092
  • 2. 云南师范大学太阳能研究所,昆明650092
  • 折叠

摘要

关键词

Zn(O,S)薄膜/磁控共溅射/衬底温度/光电性能

Key words

Zn (O, S) thin film / magnetron co-sputtering/ substrate temperature/ photoelectric property

分类

数理科学

引用本文复制引用

彭柳军,杨雯,陈小波,自兴发,杨培志,宋肇宁..衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响[J].人工晶体学报,2015,44(1):38-42,54,6.

基金项目

国家自然科学基金(U1037604) (U1037604)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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