人工晶体学报2015，Vol.44Issue(1)：190-194,5.
氮气压强对PLD制备ZnO薄膜形貌及光电性能的影响
Effect of Nitrogen Pressure on the Morphology and Photoelectric Properties of ZnO Films Prepared by PLD
摘要
关键词
ZnO/氮气/脉冲激光沉积/光电性能Key words
ZnO / nitrogen / PLD / photoelectric property分类
数理科学引用本文复制引用
吴克跃,吴兴举..氮气压强对PLD制备ZnO薄膜形貌及光电性能的影响[J].人工晶体学报,2015,44(1):190-194,5.基金项目
皖西学院优秀青年基金(WXYQ1314) （WXYQ1314）
六安市委托定向皖西学院项目(2013LWA012) （2013LWA012）
国家自然科学基金(21377099) （21377099）
安徽省自然科学基金(1408085QA13) （1408085QA13）
