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电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建

王立世张国庆 Marie-Christine Record 卜智翔孙力

云南师范大学学报（自然科学版）2015，Vol.35Issue(1)：35-40,6.

云南师范大学学报（自然科学版）2015，Vol.35Issue(1)：35-40,6.DOI:10.7699/j.ynnu.ns-2015-007

电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建

Research Application and Platform Establishment of Electrochemical Atomic Layer Deposition

王立世 ¹张国庆 ²Marie-Christine Record ³卜智翔 ⁴孙力¹

作者信息

1. 湖北工业大学机械工程学院,湖北武汉430068
2. 湖北工业大学绿色轻工材料湖北省重点实验室,湖北武汉430068
3. 云南师范大学学报编辑部,云南昆明650092
4. Institut Matériaux Microélectronique Nanosciences de Provence, Aix-Marseille Universit, Marseille 13397, France
折叠

摘要

关键词

电化学原子层沉积/电化学原子层外延/功能薄膜/沉积系统

Key words

Electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD)/Electrochemical atomic layer epitaxy (EC-ALE)/Functional thin films/Deposition equipment and control method

分类

化学化工

引用本文复制引用

王立世,张国庆,Marie-Christine Record,卜智翔,孙力..电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建[J].云南师范大学学报（自然科学版）,2015,35(1):35-40,6.

基金项目

绿色轻工材料湖北省重点实验室基金资助项目([2013]2-14,[2013]2-6) （[2013]2-14,[2013]2-6）

国家自然科学基金资助项目(50901033) （50901033）

云南师范大学博士科研启动基金资助项目. （）

云南师范大学学报（自然科学版）

OACSTPCD

ISSN：1007-9793

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