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退火对ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜性能的影响

李文英 钟建 张柯 汪元元 尹桂林 何丹农

材料工程2015,Vol.43Issue(1):44-48,5.
材料工程2015,Vol.43Issue(1):44-48,5.DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2015.01.008

退火对ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜性能的影响

Effects of Annealing on Properties of ZnO/Cu/ZnO Transparent Conductive Film

李文英 1钟建 2张柯 2汪元元 2尹桂林 2何丹农1

作者信息

  • 1. 上海交通大学材料科学与工程学院,上海200240
  • 2. 纳米技术及应用国家工程研究中心,上海200241
  • 折叠

摘要

关键词

退火/ZnO/Cu/透明导电薄膜

Key words

annealing/ZnO/Cu/transparent conductive film

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李文英,钟建,张柯,汪元元,尹桂林,何丹农..退火对ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜性能的影响[J].材料工程,2015,43(1):44-48,5.

基金项目

科技部国际合作项目(2011DFA50530) (2011DFA50530)

上海市纳米专项(12nm0504800) (12nm0504800)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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