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石英基底的ITO薄膜制备及光电性能

徐书林 胡志强 张临安 聂铭歧 张海涛

大连工业大学学报2015,Vol.34Issue(1):60-63,4.
大连工业大学学报2015,Vol.34Issue(1):60-63,4.

石英基底的ITO薄膜制备及光电性能

Preparation and photoelectric properties of ITO thin films deposited on quartz substrate

徐书林 1胡志强 1张临安 1聂铭歧 1张海涛2

作者信息

  • 1. 大连工业大学新能源材料研究所,辽宁大连 116034
  • 2. 锦州新世纪石英(集团)有限公司,辽宁锦州 121000
  • 折叠

摘要

关键词

氧化铟锡薄膜/脉冲磁控溅射/石英

Key words

ITO films/ pulsed magnetron sputter/ quartz

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

徐书林,胡志强,张临安,聂铭歧,张海涛..石英基底的ITO薄膜制备及光电性能[J].大连工业大学学报,2015,34(1):60-63,4.

基金项目

国家高技术研究发展计划(863计划)项目(2006AA05Z417) (863计划)

辽宁省教育厅重点实验室科技项目(2008S017). (2008S017)

大连工业大学学报

OA北大核心CSTPCD

1674-1404

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