宇航材料工艺2015，Vol.45Issue(1)：57-61,5.DOI:10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.015
不同金属基体上W-C:H溅射薄膜的摩擦学性能
Tribological Properties of Sputtered W-C:H Films on Several Metallic Substrates
郑军 1周晖 1杨拉毛草 1张延帅 1翟广泉2
作者信息
- 1. 兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000
- 2. 北京空间机电研究所,北京100094
- 折叠
摘要
关键词
W-C:H薄膜/摩擦学/PEPE润滑脂/力学性能/非平衡磁控溅射Key words
W-C : H films/Tribology/PEPE lubricant/Mechanical properties/Ubalanced magnetron sputtering分类
机械制造引用本文复制引用
郑军,周晖,杨拉毛草,张延帅,翟广泉..不同金属基体上W-C:H溅射薄膜的摩擦学性能[J].宇航材料工艺,2015,45(1):57-61,5.
