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SiC高温氧化工艺开发和界面特性分析

赵艳黎 李诚瞻 蒋华平 许恒宇

大功率变流技术Issue(1):36-38,3.
大功率变流技术Issue(1):36-38,3.DOI:10.13889/j.issn.2095-3631.2015.01.008

SiC高温氧化工艺开发和界面特性分析

Development of High Temperature Oxidation Technology for SiC and Analysis on the Characteristics of its Interface

赵艳黎 1李诚瞻 1蒋华平 1许恒宇2

作者信息

  • 1. 株洲南车时代电气股份有限公司,湖南株洲412001
  • 2. 中国科学院微电子研究所,北京100029
  • 折叠

摘要

关键词

SiC氧化工艺/界面态密度/击穿电场/C-V特性/I-V特性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赵艳黎,李诚瞻,蒋华平,许恒宇..SiC高温氧化工艺开发和界面特性分析[J].大功率变流技术,2015,(1):36-38,3.

大功率变流技术

2096-5427

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