人工晶体学报2015，Vol.44Issue(2)：361-367,7.
Ar气流量对磁控溅射制备微晶硅薄膜微观结构及光/电学性能的影响
Influence of Ar Flow Rates on the Microstructure and Optical/Electrical Properties of μc-Si Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
射频磁控溅射/Ar气流量/微晶硅薄膜Key words
radiofrequency magnetron sputtering/ Ar flow rate/ μc-Si thin film分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
乔泳彭,蒋百灵..Ar气流量对磁控溅射制备微晶硅薄膜微观结构及光/电学性能的影响[J].人工晶体学报,2015,44(2):361-367,7.基金项目
国家自然科学基金(51272158) （51272158）
