人工晶体学报2015，Vol.44Issue(2)：425-429,5.
过渡层(SiO2,TiO2)对F掺杂SnO2薄膜的光电性能影响研究
Effect of Transition Layers(SiO2, TiO2) on the Photoelectric Properties of F Doped SnO2 Thin Films
摘要
关键词
FTO薄膜/喷雾热解/过渡层/光电性能Key words
FTO thin films/ spray pyrolysis/ transition layers/ photoelectric property分类
数理科学引用本文复制引用
高赟,赵高扬,任洋..过渡层(SiO2,TiO2)对F掺杂SnO2薄膜的光电性能影响研究[J].人工晶体学报,2015,44(2):425-429,5.基金项目
国家自然科学基金(51372198) （51372198）
陕西省科技计划资助项目(国际合作)(2013KW14-01) （国际合作）
