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经硅等离子体注入的纯镁电化学腐蚀性能的研究

许瑞珍 杨雄波 樊帅伟 杨种田

三峡大学学报(自然科学版)2015,Vol.37Issue(2):98-101,4.
三峡大学学报(自然科学版)2015,Vol.37Issue(2):98-101,4.DOI:10.13393/j.cnki.issn.1672-948X.2015.02.022

经硅等离子体注入的纯镁电化学腐蚀性能的研究

Effects of Silicon Plasma Immersion Ion Implantation on Electrochemical Corrosion Properties of Pure Magnesium in Simulated Body Fluid

许瑞珍 1杨雄波 1樊帅伟 1杨种田1

作者信息

  • 1. 三峡大学理学院,湖北宜昌 443002
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摘要

关键词

等离子体注入//腐蚀

Key words

plasma immersion ion implantation/magnesium/corrosion

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

许瑞珍,杨雄波,樊帅伟,杨种田..经硅等离子体注入的纯镁电化学腐蚀性能的研究[J].三峡大学学报(自然科学版),2015,37(2):98-101,4.

基金项目

国家自然科学基金(11174179) (11174179)

三峡大学人才启动基金(KJ2014B079,KJ2014B080) (KJ2014B079,KJ2014B080)

三峡大学学报(自然科学版)

OACSTPCD

1672-948X

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