中国科学院大学学报2015，Vol.32Issue(2)：145-154,10.DOI:10.7523/j.issn.2095-6134.2015.02.001
高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展
Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge
摘要
关键词
HIPIMS/HPPMS/等离子体动力学/放电特性/高离化率Key words
HIPIMS/ HPPMS/ plasma dynamics/ discharge characteristic/ high ionization rate分类
通用工业技术引用本文复制引用
夏原,高方圆,李光..高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展[J].中国科学院大学学报,2015,32(2):145-154,10.基金项目
Supported by the Research Equipment Development Project of Chinese Academy of Sciences(YZ201135) （YZ201135）
