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AlN插入层对AlGaN/GaN外延材料电学性能影响

王侠

人工晶体学报2015,Vol.44Issue(3):672-675,4.
人工晶体学报2015,Vol.44Issue(3):672-675,4.

AlN插入层对AlGaN/GaN外延材料电学性能影响

Influence of AlN Interlayer on the Electrical Properties of AlGaN/GaN Epitaxial Material

王侠1

作者信息

  • 1. 西安科技大学电气与控制工程学院,西安710054
  • 折叠

摘要

关键词

MOCVD/AlN插入层/AlGaN/GaN异质结构/外延/迁移率

Key words

MOCVD/ AlN interlayer/ AlGaN/GaN heterostructure / epitaxy / mobility

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王侠..AlN插入层对AlGaN/GaN外延材料电学性能影响[J].人工晶体学报,2015,44(3):672-675,4.

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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