人工晶体学报2015，Vol.44Issue(3)：728-733,6.
晶体的定偏心平面CMP均匀性研究
Study on the Uniformity of Certain Eccentricity Surface Chemical Mechanical Polishing of Crystal
王志斌 1吴传超 2安永泉 1赵同林 1解琨阳 1刘顺1
作者信息
- 1. 山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051
- 2. 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051
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摘要
关键词
定偏心/CMP/轨迹方程/均匀性Key words
certain eccentricity/ CMP/ trajectory equation/ uniformity分类
数理科学引用本文复制引用
王志斌,吴传超,安永泉,赵同林,解琨阳,刘顺..晶体的定偏心平面CMP均匀性研究[J].人工晶体学报,2015,44(3):728-733,6.
