发光学报2015，Vol.36Issue(4)：429-436,8.DOI:10.3788/fgxb20153604.0429
膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响
Effect of Thickness on The Structure and Optical Properties of SnS Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
SnS薄膜/射频磁控溅射/膜厚/晶体结构/光学性质Key words
SnS thin film/RF magnetron sputtering/film thickness/crystalline structure/optical properties分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
余亮,梁齐,刘磊,马明杰,史成武..膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响[J].发光学报,2015,36(4):429-436,8.基金项目
国家自然科学基金(51272061)资助项目 （51272061）
