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合成Cu2ZnSnS4薄膜四元共电沉积机理与退火相转变

贺显聪 郝菀 皮锦红 张传香 沈鸿烈

材料工程2015,Vol.43Issue(4):66-72,7.
材料工程2015,Vol.43Issue(4):66-72,7.DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2015.04.012

合成Cu2ZnSnS4薄膜四元共电沉积机理与退火相转变

Quaternary Co-electrodeposition Mechanism and Annealing Phase Transition of Synthesized Cu2ZnSnS4 Films

贺显聪 1郝菀 2皮锦红 1张传香 2沈鸿烈1

作者信息

  • 1. 南京工程学院材料工程学院,南京211167
  • 2. 江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室,南京211167
  • 折叠

摘要

关键词

Cu2ZnSnS4/四元共电沉积/退火

Key words

Cu2ZnSnS4/quaternary co-electrodeposition/annealing

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

贺显聪,郝菀,皮锦红,张传香,沈鸿烈..合成Cu2ZnSnS4薄膜四元共电沉积机理与退火相转变[J].材料工程,2015,43(4):66-72,7.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(61176062) (61176062)

江苏省博士后基金资助(1302005A) (1302005A)

南京工程学院在职博士科研资助项目(ZKJ201302) (ZKJ201302)

南京工程学院大学生科技创新资助项目(N20140206) (N20140206)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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