量子电子学报2015，Vol.32Issue(3)：364-370,7.DOI:10.3969/j.issn.1007-5461.2015.03.017
基于动力学蒙特卡洛方法模拟化学气相沉积生长Cu薄膜的条件
Growth conditions of Cu thin-films grown by CVD using kinetic Monte Carlo simulation
李朋 1杨振雄 1赵虎1
作者信息
- 1. 北京师范大学物理学系,北京 100875
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摘要
关键词
薄膜光学/动力学蒙特卡洛方法/生长模拟/表面粗糙度/表面熵Key words
thin films optics/kinetic Monte Carlo method/growth simulation/surface roughness/surface entropy分类
数理科学引用本文复制引用
李朋,杨振雄,赵虎..基于动力学蒙特卡洛方法模拟化学气相沉积生长Cu薄膜的条件[J].量子电子学报,2015,32(3):364-370,7.
