材料与冶金学报2015，Vol.14Issue(3)：211-216,221,7.DOI:10.14186/j.cnki.1671-6620.2015.03.011
TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响
Effect of deposition conditions on structure and adhesion strength of TiN films
摘要
关键词
反应磁控溅射/TiN薄膜/沉积时间/基板温度/结合力Key words
reactive magnetron sputtering/TiN thin films/deposition time/substrate temperature/adhesion strength分类
数理科学引用本文复制引用
肖娜,杜菲菲,邢韵..TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响[J].材料与冶金学报,2015,14(3):211-216,221,7.基金项目
中央高校基本科研业务费(N140904002) （N140904002）
教育部科学技术研究重大项目(313014). （313014）
