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科技创新与应用
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磁控溅射技术的原理与发展
磁控溅射技术的原理与发展
王俊
郝赛
科技创新与应用
Issue(2):35-35,1.
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科技创新与应用
Issue(2)
:35-35,1.
磁控溅射技术的原理与发展
王俊
1
郝赛
1
作者信息
1.
山东大学 材料科学与工程学院,山东 济南 250002
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摘要
关键词
镀膜技术
/
磁控溅射
/
平衡磁控溅射
/
非平衡磁控溅射
引用本文
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王俊,郝赛..磁控溅射技术的原理与发展[J].科技创新与应用,2015,(2):35-35,1.
科技创新与应用
ISSN:
2095-2945
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