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第一性原理研究厚度和空位缺陷对Si/SiO2界面电子结构与光学性质的影响

顾芳 陈云云 张仙岭 李敏 张加宏

原子与分子物理学报Issue(6):993-999,7.
原子与分子物理学报Issue(6):993-999,7.DOI:10.3969/j.issn.1000-0364.2014.06.025

第一性原理研究厚度和空位缺陷对Si/SiO2界面电子结构与光学性质的影响

First-principles study of the impact of thickness and vacancy defects on the electronic structure and optical properties of the Si/SiO2 interface

顾芳 1陈云云 1张仙岭 1李敏 2张加宏2

作者信息

  • 1. 南京信息工程大学物理与光电工程学院,南京210044
  • 2. 南京信息工程大学江苏省气象探测与信息处理重点实验室,南京 210044
  • 折叠

摘要

Abstract

troducing the defects can effectively regulate the electronic and optical properties of the Si/SiO2 interface system.The results of the study provide a theoretical basis for design and application of Si/SiO2 interface nanomaterials.

关键词

Si/SiO2 界面/第一性原理/空位缺陷/电子结构/光学性质

Key words

Si/SiO2 interface/First principles/Vacancy defects/Electronic structure/Optical properties

分类

数理科学

引用本文复制引用

顾芳,陈云云,张仙岭,李敏,张加宏..第一性原理研究厚度和空位缺陷对Si/SiO2界面电子结构与光学性质的影响[J].原子与分子物理学报,2014,(6):993-999,7.

基金项目

国家自然科学基金(61306138,61307113);江苏省自然科学基金 ()

原子与分子物理学报

OA北大核心CSCD

1000-0364

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