人工晶体学报2015，Vol.44Issue(7)：1748-1753,6.
基于负性光刻胶掩膜的湿法多晶硅制绒
Texturization of Polycrystalline Silicon Wafers by Wet Etching Process Using Negative Photoresist Masks
摘要
关键词
多晶硅太阳能电池/表面制绒/湿法刻蚀/光刻法/负性光刻胶Key words
polycrystalline silicon solar cell/surface texturization/wet etching/photolithography/negative photoresist分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
丁彬,程现铁,徐国庆,张宏..基于负性光刻胶掩膜的湿法多晶硅制绒[J].人工晶体学报,2015,44(7):1748-1753,6.基金项目
江苏省自然科学基金(BK20141215) （BK20141215）
