沈阳大学学报（自然科学版）2015，Vol.27Issue(4)：259-262,4.
偏压对Ti-Si-N纳米复合膜结构和性能的影响
Effect of Bias Voltage on Microstructure and Properties of Magnetron Sputtered Ti-Si-N Nanocomposite Films
摘要
关键词
Ti-Si-N/磁控共溅射/纳米复合薄膜/微结构/偏压/性能分类
通用工业技术引用本文复制引用
贺春林,王苓飞,高建君,朱跃长,解磊鹏,李蕊,马国峰,王建明..偏压对Ti-Si-N纳米复合膜结构和性能的影响[J].沈阳大学学报（自然科学版）,2015,27(4):259-262,4.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51171118) （51171118）
教育部留学回国人员启动基金和辽宁省高等学校优秀科技人才支持计划资助项目(LR2013054). （LR2013054）
