强激光与粒子束2015，Vol.27Issue(11)：150-154,5.DOI:10.11884/HPLPB201527.113101
太赫兹全金属光栅工艺中光刻胶内应力
Internal stress of photoresists for microfabrication of THz full-metal grating
卢怡如 1张称 2阮久福 3杨军 1邓光晟 2吕国强1
作者信息
- 1. 合肥工业大学特种显示技术教育部重点实验室,合肥230009
- 2. 合肥工业大学光电技术研究院,合肥230009
- 3. 合肥工业大学仪器科学与光电工程学院,合肥230009
- 折叠
摘要
关键词
全金属光栅器件/光刻/有限元/内应力/粘弹性Key words
full-metal grating/photolithography/finite element analysis/internal stress/viscoelasticity分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
卢怡如,张称,阮久福,杨军,邓光晟,吕国强..太赫兹全金属光栅工艺中光刻胶内应力[J].强激光与粒子束,2015,27(11):150-154,5.
