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利用椭偏仪研究氢气退火处理对ZnO-Ga薄膜光学性能的影响

杨娇 高美珍

红外与毫米波学报2016,Vol.35Issue(1):6-10,5.
红外与毫米波学报2016,Vol.35Issue(1):6-10,5.DOI:10.11972/j.issn.1001-9014.2016.01.002

利用椭偏仪研究氢气退火处理对ZnO-Ga薄膜光学性能的影响

Optical properties of hydrogenated ZnO-Ga thin films studied by spectroscopic ellipsometry

杨娇 1高美珍1

作者信息

  • 1. 兰州大学物理科学与技术学院磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃兰州730000
  • 折叠

摘要

关键词

GZO薄膜/氢处理/椭圆偏振光谱仪/双振子模型

Key words

GZO thin film/hydrogen treatment/spectroscopic ellipsometry/double oscillator model

分类

物理学

引用本文复制引用

杨娇,高美珍..利用椭偏仪研究氢气退火处理对ZnO-Ga薄膜光学性能的影响[J].红外与毫米波学报,2016,35(1):6-10,5.

基金项目

Supported by the National Natural Science Foundation of China (51371093)and Program for Changjiang Scholars and Innovative Research Team in University(IRT1251) (51371093)

红外与毫米波学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1001-9014

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