液晶与显示2016，Vol.31Issue(1)：58-61,4.DOI:10.3788/YJYXS20163101.0058
过孔的不同干法刻蚀工艺对TFT-LCD性能的影响研究
Influence of different dry etching process of contact hole on TFT-LCD performance
霍晓迪 1陈兵 1李知勋 1李淳东 1刘华锋1
作者信息
- 1. 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,内蒙古鄂尔多斯017020
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摘要
关键词
干法刻蚀/侧面接触方式/过孔/液晶面板/低温多晶硅技术Key words
dry etch/Just Contact Method/contact hole/TFT-LCD/low-temperature polysilicon technology分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
霍晓迪,陈兵,李知勋,李淳东,刘华锋..过孔的不同干法刻蚀工艺对TFT-LCD性能的影响研究[J].液晶与显示,2016,31(1):58-61,4.
