液晶与显示2016，Vol.31Issue(1)：67-73,7.DOI:10.3788/YJYXS20163101.0067
湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究
Improvement of etching uniformity and influence factors of wet etching of FI CD uniformity
范学丽 1靖瑞宽 1翁超 1陈启省 1王晏酩 1肖红玺 1刘还平1
作者信息
- 1. 北京京东方光电科技有限公司,北京100176
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摘要
关键词
TFT-LCD/湿法刻蚀/FI CD/均一性Key words
TFT-LCD/wet etching/FI CD/uniformity引用本文复制引用
范学丽,靖瑞宽,翁超,陈启省,王晏酩,肖红玺,刘还平..湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究[J].液晶与显示,2016,31(1):67-73,7.
