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单晶硅各向异性湿法刻蚀的形貌控制

姚明秋 唐彬 苏伟

光学精密工程2016,Vol.24Issue(2):350-357,8.
光学精密工程2016,Vol.24Issue(2):350-357,8.DOI:10.3788/OPE.20162402.0350

单晶硅各向异性湿法刻蚀的形貌控制

Morphologic control of wet anisotropic silicon etching

姚明秋 1唐彬 2苏伟2

作者信息

  • 1. 南京理工大学电子工程与光电技术学院,江苏南京210094
  • 2. 中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621999
  • 折叠

摘要

关键词

单晶硅/湿法刻蚀/形貌控制/三重溶液/表面粗糙度/凸角

Key words

silicon/wet etching/morphological control/ternary solution/surface roughness/convex corner

分类

机械制造

引用本文复制引用

姚明秋,唐彬,苏伟..单晶硅各向异性湿法刻蚀的形貌控制[J].光学精密工程,2016,24(2):350-357,8.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.51305412) (No.51305412)

中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室研究基金资助项目(No.2012CJMZZ00003) (No.2012CJMZZ00003)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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