光学精密工程2016，Vol.24Issue(3)：469-476,8.DOI:10.3788/OPE.20162403.0469
掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响
Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens
摘要
关键词
光刻/光学设计/光刻投影物镜/畸变/勒让德多项式/公差分析Key words
lithography/optical design/lithographic projection lens/optical distortion/Legendre polynomials/tolerance analysis分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
杨旺,黄玮,尚红波..掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响[J].光学精密工程,2016,24(3):469-476,8.基金项目
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