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低温状态下的材料法向发射率测量

袁林光 薛战理 李宏光 李涛 杨鸿儒

光学精密工程2016,Vol.24Issue(1):59-64,6.
光学精密工程2016,Vol.24Issue(1):59-64,6.DOI:10.3788/OPE.20162401.0059

低温状态下的材料法向发射率测量

Measurement of normal emissivity of materials at low temperature

袁林光 1薛战理 1李宏光 1李涛 1杨鸿儒1

作者信息

  • 1. 西安应用光学研究所国防科技工业光学一级计量站,陕西西安710065
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摘要

关键词

材料发射率测量/低温测量/法向发射率/真空液氮背景通道/测量不确定度

Key words

material emissivity measurement/low temperature measurement/normal emissivity/vacuum and liquid nitrogen background channel/measurement uncertainty

引用本文复制引用

袁林光,薛战理,李宏光,李涛,杨鸿儒..低温状态下的材料法向发射率测量[J].光学精密工程,2016,24(1):59-64,6.

基金项目

十二五总装预研项目(No.62201050103) (No.62201050103)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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